化學(xué)蝕刻和電化學(xué)蝕刻的區(qū)別

             對(duì)于金屬蝕刻加工來(lái)說(shuō)，化學(xué)蝕刻和電化學(xué)蝕刻是現(xiàn)在比較常見(jiàn)的蝕刻加工方式，那么化學(xué)蝕刻和電化學(xué)蝕刻的區(qū)別是什么？

              一、化學(xué)蝕刻加工 

             金屬化學(xué)蝕刻是之金屬在干燥氣體（如氧、氯、硫化氫等）和非電解質(zhì)溶液（配置的蝕刻液）中進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)的結(jié)果?；瘜W(xué)反應(yīng)作用引起腐蝕，在腐蝕過(guò)程中不產(chǎn)生電流。金屬的化學(xué)腐蝕只在特定的情況下發(fā)生，所以不同的金屬需要配置不容的蝕刻液來(lái)進(jìn)行腐蝕。例如：金屬的氧化M+O→MO。 化學(xué)蝕刻加工速度快，相比電化學(xué)蝕刻可以加工較深的深度，但是蝕刻液對(duì)環(huán)保有較大影響，鑫海森蝕刻加工廠房設(shè)有污水處理系統(tǒng)，減少對(duì)環(huán)境的影響。

             二、電化學(xué)蝕刻加工 

             金屬和介質(zhì)發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)而引起的腐蝕，在腐蝕過(guò)程中有陽(yáng)極和陰極區(qū)，電流可以通過(guò)金屬在一定的距離中流動(dòng)，如金屬在各種電介質(zhì)溶液（如海水、酸、堿、鹽溶液、潮濕大氣等）中的腐蝕。在一般情況下，電化學(xué)蝕刻主要為微電池腐蝕和濃差電池腐蝕。電化學(xué)蝕刻的必要條件是：陽(yáng)極、陰極、電介質(zhì)、電流回路。除去或改變其中任何一個(gè)條件即可阻止或減緩腐蝕的進(jìn)行。涂層能將金屬周圍的電介質(zhì)隔離開(kāi)，實(shí)際上也有電化學(xué)防腐的作用。電化學(xué)防腐主要通過(guò)陰極保護(hù)和陽(yáng)極保護(hù)來(lái)實(shí)現(xiàn)。電化學(xué)蝕刻對(duì)環(huán)境污染小，但是蝕刻的深度較淺，電流分布受面積影響，面積較大時(shí)，蝕刻精度不能很好的控制，且不能做凸面的蝕刻。

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